Stabilization of amorphous films by stress
Abstract
The structure of NiFe films with radii >2.5 μm deposited at 300 and 4.2 K within the electron microscope was studied. The 300 K films were fine-grained, f.c.c. below 65 at% Fe and b.c.c. above. In contrast, 4.2 K films initially grew in an amorphous structure up to a critical thickness turning f.c.c. below 55 at% Fe and b.c.c. above. Films with small radii revealed pronounced stabilization of the amorphous phase by magnetostriction-induced stress and anomalous crystal sizes initiated by heat spikes during crystallization. Es wurde die Struktur von NiFe-Schichten mit Radien >2,5 μm untersucht, die bei 300 und 4,2 K im Elektronenmikroskop kondensiert wurden. Die 300 K-Schichten waren feinkristallin sowie k.f.z. unter 65 At% Fe und k.r.z. darüber. Im Gegensatz dazu wuchsen die 4,2 K-Schichten amorph auf und wurden bei einer kritischen Dicke k.f.z. unter 55 At% Fe und k.r.z. darüber. Schichten mit kleinen Radien zeigten eine auffällige Stabilisierung der amorphen Phase durch magnetostriktionsbedingte Spannungen und anomale Kristallitgröße, erzeugt durch lokale Erwärmung bei der Kristallisation.