Работы, на которые ссылается эта работа

Работ: 2

Работа: The effect of ultrasonic treatment on the generation characteristics of a Si-SiO2 interface

1. The Pulsed MIS Capacitor. A Critical Review

   Jaehyeon Kang, D.K. Schroder

   Обзорная статья1985Цитирований: 7

   ABIABI:AkademIndex/openalex/2026.other.527893

2. Interpretation of surface and bulk effects using the pulsed MIS capacitor

   D.K. Schroder, J. Guldberg

   Статья1971Цитирований: 2

   ABIABI:AkademIndex/openalex/2026.other.610566