← Назад к работе
Работы, на которые ссылается эта работа
Работ: 3
Работа: Diffusion of yittrium in silicon
Electrical Behavior of Group III and V Implanted Dopants in Silicon
R. Baron, G. A. Shifrin, O. J. Marsh +1
Статья1969Цитирований: 3ABI