Работы, на которые ссылается эта работа

Работ: 1

Работа: Optimum ion implantation and annealing conditions for stimulating secondary negative ion emission

1. Sputtering by Particle Bombardment III

   R. Behrisch, K. Wittmaack, Wittmaack, Klaus +1

   Книга1991Цитирований: 18

   ABIABI:AkademIndex/openalex/2026.other.200782