← Назад к работе
Работы, на которые ссылается эта работа
Работ: 19
Работа: Study of doping uniformity of a 200 kV ion implanter by RBS and sheet resistance measurements
Simulated annealing analysis of Rutherford backscattering data
N.P. Barradas, C. Jeynes, R.P. Webb
Статья1997Цитирований: 5ABIFundamentals of surface and thin film analysis
L. C. Feldman, James W. Mayer, F. Adams
Статья1989Цитирований: 2ABI