Работы, на которые ссылается эта работа

Работ: 13

Работа: INDENTATION OF NEGATIVE PHOTORESIST FILMS FOR LIFT-OFF LITHOGRAPHY

1. Ion implantation of positive photoresists

   Д. И. Бринкевич, С. Д. Бринкевич, Н. В. Вабищевич +2

   Статья2014Цитирований: 2

   ABIABI:AkademIndex/openalex/2026.other.431842

2. Reflection Spectra Modification of Diazoquinone-Novolak Photoresist Implanted with B and P Ions

   Д. И. Бринкевич, А. А. Харченко, В. С. Просолович +3

   Статья2019Цитирований: 2

   ABIABI:AkademIndex/openalex/2026.other.431845

3. Modification of Diazoquinone–Novolac Photoresist Films beyond the Region of Implantation of B+ Ions

   С. Д. Бринкевич, E. V. Grinyuk, Д. И. Бринкевич +1

   Статья2020Цитирований: 2

   ABIABI:AkademIndex/openalex/2026.other.431846

4. Без названия

   ДругоеЦитирований: 1

   ABIABI:AkademIndex/openalex/2026.other.431839

5. Без названия

   ДругоеЦитирований: 1

   ABIABI:AkademIndex/openalex/2026.other.431840

6. Без названия

   ДругоеЦитирований: 1

   ABIABI:AkademIndex/openalex/2026.other.431841

7. Без названия

   ДругоеЦитирований: 1

   ABIABI:AkademIndex/openalex/2026.other.431843

8. Без названия

   ДругоеЦитирований: 1

   ABIABI:AkademIndex/openalex/2026.other.431844

9. Без названия

   ДругоеЦитирований: 1

   ABIABI:AkademIndex/openalex/2026.other.431847

10. Без названия

    ДругоеЦитирований: 1

    ABIABI:AkademIndex/openalex/2026.other.431848

11. Без названия

    ДругоеЦитирований: 1

    ABIABI:AkademIndex/openalex/2026.other.431849

12. Без названия

    ДругоеЦитирований: 1

    ABIABI:AkademIndex/openalex/2026.other.431850

13. Без названия

    ДругоеЦитирований: 1

    ABIABI:AkademIndex/openalex/2026.other.431851