The growth of Ti3SiC2 coatings onto SiC by reactive chemical vapor deposition using H2 and TiCl4
Houssam FakihUniversité Lyon 1, CNRS, UMR5615, Laboratoire des Multimatériaux et Interfaces, Bâtiment Claude Berthollet, 43 Boulevard du 11 Novembre 1918 F-69622 Villeurbanne Cedex, FranceSylvain A. JacquesUniversité Lyon 1, CNRS, UMR5615, Laboratoire des Multimatériaux et Interfaces, Bâtiment Claude Berthollet, 43 Boulevard du 11 Novembre 1918 F-69622 Villeurbanne Cedex, FranceM. P. BerthetUniversité Lyon 1, CNRS, UMR5615, Laboratoire des Multimatériaux et Interfaces, Bâtiment Claude Berthollet, 43 Boulevard du 11 Novembre 1918 F-69622 Villeurbanne Cedex, FranceF. BosseletUniversité Lyon 1, CNRS, UMR5615, Laboratoire des Multimatériaux et Interfaces, Bâtiment Claude Berthollet, 43 Boulevard du 11 Novembre 1918 F-69622 Villeurbanne Cedex, FranceOlivier DezellusUniversité Lyon 1, CNRS, UMR5615, Laboratoire des Multimatériaux et Interfaces, Bâtiment Claude Berthollet, 43 Boulevard du 11 Novembre 1918 F-69622 Villeurbanne Cedex, FranceJ.C. VialaUniversité Lyon 1, CNRS, UMR5615, Laboratoire des Multimatériaux et Interfaces, Bâtiment Claude Berthollet, 43 Boulevard du 11 Novembre 1918 F-69622 Villeurbanne Cedex, France
2006en
ABI
Аннотация
Аннотация отсутствует.
Идентификаторы
Цитирования и источники
Цитирований: 2Использованных источников: 0