Работы, на которые ссылается эта работа

Работ: 6

Работа: Electronic structure and optical properties of CaF2 films under low energy Ba+ ion-implantation combined with annealing

1. Silicides for VLSI applications

   S. P. Murarka

   Книга1983Цитирований: 6

   ABIABI:AkademIndex/openalex/2026.other.212580

2. Ion Implantation in Semiconductors

   James W. Mayer, O. J. Marsh

   Глава1969Цитирований: 5

   ABIABI:AkademIndex/openalex/2026.other.212581

3. Auger electron spectroscopy and electron energy loss spectroscopy studies of the formation of silicon nitride by implanting low energy nitrogen ions into silicon

   N. Lieske, Rudolf Hezel

   Статья1981Цитирований: 3

   ABIABI:AkademIndex/openalex/2026.other.212584

4. Special Applications

   S. P. Murarka

   Глава1983Цитирований: 3

   ABIABI:AkademIndex/openalex/2026.other.212585

5. Без названия

   ДругоеЦитирований: 1

   ABIABI:AkademIndex/openalex/2026.other.212582

6. Без названия

   ДругоеЦитирований: 1

   ABIABI:AkademIndex/openalex/2026.other.212583