← Назад к работе
Работы, на которые ссылается эта работа
Работ: 8
Работа: Formation of Nanosized Films of Chromium Silicides on Silicon Surface
Formation of manganese silicide nanowires on Si(111) surfaces by the reactive epitaxy method
Статья2009Цитирований: 3ABIInitial growth stages of manganese films on the Si(100)2 × 1 surface
С. Н. Варнаков, M. V. Gomoyunova, G. S. Grebenyuk +3
Статья2014Цитирований: 2ABI