Перейти к основному содержанию
AkademIndex

Продукты

Для разработчиков

AkademBaseОткрытый API экосистемы
← Назад к работе

Работы, цитирующие эту работу

Работ: 1

Работа: Effect of deposition parameters on the superhardness and stoichiometry of nanostructured Ti–Hf–Si–N films