Fullerene-containing macromolecules for materials science applications
Jean‐François NierengartenInstitut de Physique et Chimie des Matériaux de Strasbourg, Groupe des Matériaux Organiques, Université Louis Pasteur et CNRS, 23 rue du Loess, 67034 Strasbourg, FranceM. Guttiérez-NavaInstitut de Physique et Chimie des Matériaux de Strasbourg, Groupe des Matériaux Organiques, Université Louis Pasteur et CNRS, 23 rue du Loess, 67034 Strasbourg, FranceS. ZhangInstitut de Physique et Chimie des Matériaux de Strasbourg, Groupe des Matériaux Organiques, Université Louis Pasteur et CNRS, 23 rue du Loess, 67034 Strasbourg, FrancePatrick MassonInstitut de Physique et Chimie des Matériaux de Strasbourg, Groupe des Matériaux Organiques, Université Louis Pasteur et CNRS, 23 rue du Loess, 67034 Strasbourg, FranceLaurence OswaldInstitut de Physique et Chimie des Matériaux de StrasbourgCyril BourgogneInstitut de Physique et Chimie des Matériaux de Strasbourg, Groupe des Matériaux Organiques, Université Louis Pasteur et CNRS, 23 rue du Loess, 67034 Strasbourg, FranceYannick RioInstitut de Physique et Chimie des Matériaux de Strasbourg, Groupe des Matériaux Organiques, Université Louis Pasteur et CNRS, 23 rue du Loess, 67034 Strasbourg, FranceGianluca AccorsiIstituto per la Sintesi Organica e la Fotoreattività, Laboratorio di Fotochimica, CNR, via Gobetti 101, 40129 Bologna, ItalyNicola ArmaroliIstituto per la Sintesi Organica e la Fotoreattività, Laboratorio di Fotochimica, CNR, via Gobetti 101, 40129 Bologna, ItalySepas SetayeshPhilips Electronics Netherland B.V., Prof. Holstlaan 4 (WB62), 5656 AA Eindhoven, Netherlands
2004en
ABI
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