Асосий контентга ўтиш
AkademIndex

Маҳсулотлар

Ишлаб чиқувчилар учун

AkademBaseЭкотизим учун очиқ API
← Ишга қайтиш

Ушбу ишга иқтибос қилган ишлар

1 та иш

Иш: Effect of deposition parameters on the superhardness and stoichiometry of nanostructured Ti–Hf–Si–N films