SI/Cu plenka sirtiga O 2 + ionlari bilan implantatsiya qilinganda nanoo‘lchamli plyonkasining hosil bo‘lishi
2025uz
ABI
Annotatsiya
O2+ ionlari bilan implantatsiya qilingandan kcyingi Si-Cu(lOO) sirt yuzasi va sirt qismi tarkibining va tarkibidagi atomlar taqsimlanishi tekshirilgan. Bu ishda Si/Cu(100) tizimini Ch+ ionlari bilan ionli implantatsiya qilish natijasida sirt yuza bo'ylab va sirt yuza qatlami tarkibidagi atomlarning taqsimlanishini tekshirish ishi birinchi marta o‘tkazilmoqda. Toza Si/Cu tizimini Ch+ iolari bilan implantatsiya qilish va qizdirish yo‘li bilan d ~1,5-2 nm qalinlikdagi SiCh nanoplyonkasini olish imkonini bcrar ckan.
Identifikatorlar
Iqtiboslar va manbalar
0 ta iqtibos0 ta foydalanilgan manba