Study of three new halogenated oxoquinolinecarbohydrazide N-phosphonate derivatives as corrosion inhibitor for mild steel in acid environment
Caio Machado FernandesLaboratório de Materiais da UFF, Grupo de Eletroquímica e Eletroanalítica, Instituto de Química, Universidade Federal Fluminense, Niterói, Rio de Janeiro, 24020-141, BrasilLetícia V. FaroLaboratório de Nucleosídeos, Heterociclos e Carboidratos, Instituto de Química, Universidade Federal Fluminense, Niterói, Rio de Janeiro, 24020-141, BrasilVitória G. S. S. PinaLaboratório de Materiais da UFF, Grupo de Eletroquímica e Eletroanalítica, Instituto de Química, Universidade Federal Fluminense, Niterói, Rio de Janeiro, 24020-141, BrasilMaria Cecília B. V. de SouzaGrupo de Pesquisa em Organofosforados, Instituto de Química, Universidade Federal Fluminense, Niterói, Rio de Janeiro, 24020-141, BrasilFernanda da Costa Santos BoechatLaboratório de Nucleosídeos, Heterociclos e Carboidratos, Instituto de Química, Universidade Federal Fluminense, Niterói, Rio de Janeiro, 24020-141, BrasilMarcos C. de SouzaGrupo de Pesquisa em Organofosforados, Instituto de Química, Universidade Federal Fluminense, Niterói, Rio de Janeiro, 24020-141, BrasilMatteo BrigantiUniversità degli Studi di Firenze, Dipartimento di Chimica 'Ugo Schiff', Via della Lastruccia, 3, 50019 Sesto Fiorentino FI, ItalyFederico TottiUniversità degli Studi di Firenze, Dipartimento di Chimica 'Ugo Schiff', Via della Lastruccia, 3, 50019 Sesto Fiorentino FI, ItalyEduardo A. PonzioLaboratório de Materiais da UFF, Grupo de Eletroquímica e Eletroanalítica, Instituto de Química, Universidade Federal Fluminense, Niterói, Rio de Janeiro, 24020-141, Brasil
2020en
ABI
Annotatsiya
Annotatsiya mavjud emas.
Identifikatorlar
Iqtiboslar va manbalar
2 ta iqtibos0 ta foydalanilgan manba