Pulsed reactive chemical vapor deposition in the C-Ti-Si system from H2/TiCl4/SiCl4
Sylvain JacquesLaboratoire des Multimatériaux et Interfaces–UMR 5615 CNRS/University of Lyon 1, 43, boulevard du 11 Novembre 1918, Bâtiment Berthollet, F-69622 Villeurbanne Cedex, FranceH. Di-MurroLaboratoire des Multimatériaux et Interfaces–UMR 5615 CNRS/University of Lyon 1, 43, boulevard du 11 Novembre 1918, Bâtiment Berthollet, F-69622 Villeurbanne Cedex, FranceM. P. BerthetLaboratoire des Multimatériaux et Interfaces–UMR 5615 CNRS/University of Lyon 1, 43, boulevard du 11 Novembre 1918, Bâtiment Berthollet, F-69622 Villeurbanne Cedex, FranceH. VincentLaboratoire des Multimatériaux et Interfaces–UMR 5615 CNRS/University of Lyon 1, 43, boulevard du 11 Novembre 1918, Bâtiment Berthollet, F-69622 Villeurbanne Cedex, France
2004en
ABI
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