Application of low energy ion implantation to the creation of contacts to ultrathin films
A. K. TashatovKarshinskij inzhenerno-ehkonomicheskij institut, Karshi (Uzbekistan)
2001en
ABI
Аннотация
Аннотация отсутствует.
Темы
Цитирования и источники
Цитирований: 0Использованных источников: 0
Показатели — AkademScholar · Скоро