← Назад к работе
Работы, на которые ссылается эта работа
Работ: 5
Работа: Current Analysis of Ion Implanted p<sup>+</sup>/n 4H-SiC Junctions: Post-Implantation Annealing in Ar Ambient
Performance limiting surface defects in SiC epitaxial p-n junction diodes
Tsunenobu Kimoto, N. Miyamoto, H. Matsunami
Статья1999Цитирований: 2ABI