Работы, на которые ссылается эта работа

Работ: 26

Работа: Area-selective Ru ALD by amorphous carbon modification using H plasma: from atomistic modeling to full wafer process integration

1. Без названия

   ДругоеЦитирований: 1

   ABIABI:AkademIndex/openalex/2026.other.372766