← Назад к работе
Работы, на которые ссылается эта работа
Работ: 22
Работа: ITO Films Deposited on Silicon by CVD Method
Physical properties of RF sputtered ITO thin films and annealing effect
L. Kerkache, A. Layadi, El Hadj Dogheche +1
Статья2005Цитирований: 3ABIDeposition of indium tin oxide by atmospheric pressure chemical vapour deposition
Jeffrey M. Gaskell, David W. Sheel
Статья2011Цитирований: 3ABICharacterization of Phosphoric Acid Doped N-type Silicon Thin Films Printed on ITO Coated PET Substrate
M.K.M. Ali, K. Ibrahim, E.M. Mkawi +1
Статья2013Цитирований: 3ABIPulsed laser deposition of ITO thin films and their characteristics
Dmitry Zuev, А. А. Лотин, O. A. Novodvorsky +7
Статья2012Цитирований: 2ABITransparent and conductive multi-functional window layer for thin-emitter Si solar cells
Статья2016Цитирований: 2ABIHybrid Structures of ITO-Nanowire-Embedded ITO Film for the Enhanced Si Photodetectors
Hyunki Kim, Gyeong‐Nam Lee, Joondong Kim
Статья2018Цитирований: 2ABIEffect of ion treatment on the properties of In2O3:Sn films
P. N. Krylov, Р. М. Закирова, И. В. Федотова +1
Статья2013Цитирований: 2ABI