← Назад к работе
Работы, цитирующие эту работу
Работ: 2
Работа: HfO<sub>2</sub>-Based RRAM: Electrode Effects, Ti/HfO<sub>2</sub> Interface, Charge Injection, and Oxygen (O) Defects Diffusion Through Experiment and <italic>Ab Initio</italic> Calculations