Silicide thin films and their applications in microelectronics
S. P. MurarkaRensselaer Polytechnic Institute, Troy, NY 12180, USA
1995en
ABI
Аннотация
Аннотация отсутствует.
Идентификаторы
Цитирования и источники
Цитирований: 3Использованных источников: 0