Работы, цитирующие эту работу

Работ: 2

Работа: Ion Implantation: Equipment and Techniques

1. Low-Energy Ne⁺ Ion Channeling and Implantation into Cu(100) and Cu₃Au(100)

   A. M. Rasulov, Abdurauf A. Dzhurakhalov

   СтатьяIon-surface interactions and analysisMRS Proceedings2003Цитирований: 4

   ABIABI:AkademIndex/openalex/2026.other.265239

2. Low-energy P+ ion channeling and implantation into Si(110), SiC(110), GaP(110) and GaAs(110)

   A. M. Rasulov, A.A. Dzhurakhalov

   СтатьяIon-surface interactions and analysisComputational Materials Science2005Цитирований: 2

   ABIABI:AkademIndex/openalex/2026.other.265236