Работы, цитирующие эту работу

Работ: 3

Работа: Atomic and cluster ion emission from silicon in secondary-ion mass spectrometry

1. Fragmentation of sputtered Si n O+ m clusters: Release kinetic and dissociation energies

   Н. Х. Джемилев, С. Ф. Коваленко, L.F. Lifanova +2

   СтатьяIon-surface interactions and analysisBulletin of the Russian Academy of Sciences Physics2008Цитирований: 11

   ABIABI:AkademIndex/openalex/2008.article.000100

2. Mechanism for the formation of molecular clusters under ion sputtering

   Н. Х. Джемилев

   СтатьяIon-surface interactions and analysisJournal of Surface Investigation X-ray Synchrotron and Neutron Techniques2012Цитирований: 7

   ABIABI:AkademIndex/openalex/2026.other.366498

3. On the unimolecular decay and mechanism of formation of Si+ n cluster ions

   Н. Х. Джемилев, С. Ф. Коваленко, С. Е. Максимов +2

   СтатьяIon-surface interactions and analysisJournal of Surface Investigation X-ray Synchrotron and Neutron Techniques2015Цитирований: 2

   ABIABI:AkademIndex/openalex/2015.article.000330