Работы, цитирующие эту работу

Работ: 1

1. Raman and IR Spectrum Analysis of CrSi2 Thin Films Formed in Direct Current and Variable Frequency Modes of a Magnetron Sputtering Device

   K.T. Dovranov, Maksim Vinnichenko, V.V. Korablev +3

   СтатьяChalcogenide Semiconductor Thin Films2024Цитирований: 2

   ABIABI:AkademIndex/openalex/2024.article.003101