Работы, цитирующие эту работу

Работ: 1

1. Atomic Layer Deposition of Ultra-Thin Oxide Semiconductors: Challenges and Opportunities

   Serge Zhuiykov, Zhenyin Hai, Eugene Kats +2

   СтатьяSemiconductor materials and devicesKey engineering materials2017Цитирований: 0

   ABIABI:AkademIndex/openalex/2017.article.000336