Работы, цитирующие эту работу

Работ: 2

Работа: Infrared spectroscopic analysis of the Si/SiO2 interface structure of thermally oxidized silicon

1. FTIR-АНАЛИЗ ТОНКИХ ПЛЕНОК КРЕМНИЯ И ОКСИДА КРЕМНИЯ

   Muradulla Normuradov, K.T. Dovranov, Kh.T. Davranov +1

   СтатьяPhotonic and Optical Devices2023Цитирований: 0

   ABIABI:AkademIndex/openalex/2023.article.011932

2. Electrophysical Properties of Nanofilms Produced by Magnetron Sputtering Method

   Dovranov Kuvondik Turakulovich

   ГлаваSemiconductor materials and devicesIntechOpen eBooks2024Цитирований: 0

   ABIABI:AkademIndex/openalex/2024.chapter.000421