Application of low energy ion implantation to the creation of contacts to ultrathin films
A. K. TashatovKarshinskij inzhenerno-ehkonomicheskij institut, Karshi (Uzbekistan)
2001en
ABI
Аннотация
Аннотация мавжуд эмас.
Мавзулар
Иқтибослар ва манбалар
0 та иқтибос0 та фойдаланилган манба
Кўрсаткичлар — AkademScholar · Тез орада