Асосий контентга ўтиш
AkademIndex

Маҳсулотлар

Ишлаб чиқувчилар учун

AkademBaseЭкотизим учун очиқ API
← Ишга қайтиш

Ушбу иш иқтибос қилган ишлар

2 та иш

Иш: The effect of ultrasonic treatment on the generation characteristics of a Si-SiO2 interface

  1. The Pulsed MIS Capacitor. A Critical Review

    Jaehyeon Kang, D.K. Schroder

    Шарҳ мақола19857 иқтибос
    ABI
  2. Interpretation of surface and bulk effects using the pulsed MIS capacitor

    D.K. Schroder, J. Guldberg

    Мақола19712 иқтибос
    ABI