K. N. Tu

3 ta ish

IBM Research - Thomas J. Watson Research Center

1. Diffusivity and solubility of Ni<mml:math xmlns:mml="http://www.w3.org/1998/Math/MathML" display="inline"><mml:mrow><mml:msup><mml:mrow><mml:mo>(</mml:mo></mml:mrow><mml:mrow><mml:mn>63</mml:mn></mml:mrow></mml:msup></mml:mrow></mml:math>Ni) in monocrystalline Si

   F. H. M. Spit, D. K. Gupta, K. N. Tu

   Maqola19893 iqtibos

   ABIABI:AkademIndex/2026.other.380051

2. Formation and Schottky behavior of manganese silicides on <i>n</i>-type silicon

   M. Eizenberg, K. N. Tu

   Maqola19822 iqtibos

   ABIABI:AkademIndex/2026.other.424561

3. Barrier heights and silicide formation for Ni, Pd, and Pt on silicon

   G. Ottaviani, K. N. Tu, J. W. Mayer

   Maqola19812 iqtibos

   ABIABI:AkademIndex/2026.other.552667