A. Carrington

1 ta ish

University of Cambridge

1. Hall effect and resistivity of oxygen-deficient<mml:math xmlns:mml="http://www.w3.org/1998/Math/MathML" display="inline"><mml:mrow><mml:msub><mml:mrow><mml:mi mathvariant="normal">YBa</mml:mi></mml:mrow><mml:mrow><mml:mn>2</mml:mn></mml:mrow></mml:msub></mml:mrow></mml:math><mml:math xmlns:mml="http://www.w3.org/1998/Math/MathML" display="inline"><mml:mrow><mml:msub><mml:mrow><mml:mi mathvariant="normal">Cu</mml:mi></mml:mrow><mml:mrow><mml:mn>3</mml:mn></mml:mrow></mml:msub></mml:mrow></mml:math><mml:math xmlns:mml="http://www.w3.org/1998/Math/MathML" display="inline"><mml:mrow><mml:msub><mml:mrow><mml:mi mathvariant="normal">O</mml:mi></mml:mrow><mml:mrow><mml:mn>7</mml:mn><mml:mi mathvariant="normal">−</mml:mi><mml:mi mathvariant="normal">δ</mml:mi></mml:mrow></mml:msub></mml:mrow></mml:math>thin films

   A. Carrington, D.J.C. Walker, A. P. Mackenzie +1

   Maqola19938 iqtibos

   ABIABI:AkademIndex/2026.other.244348