Asosiy kontentga oʻtish
Maqola

Oxygen Gettering on Buried Layers at Post-Implantation Annealing of Hydrogen Implanted Czochralski Silicon

R. JobUniversity of HagenW. R. FahrnerUniversity of HagenA. UlyashinSINTEF Materials and ChemistryYu. A. BumayА. И. ИвановIoffe Physicotechnical Institute RASL. Palmetshofer

Ochiq kirish: yoʻq

ABI

Annotatsiya

Annotatsiya mavjud emas.

Mavzular

Identifikatorlar

Iqtiboslar va manbalar

0 ta iqtibos0 ta foydalanilgan manba