Работы, на которые ссылается эта работа

Работ: 33

Работа: Enhancing plasma uniformity in SiH4/NH3 capacitively coupled plasmas via dielectric structure adjustment positioning adjacent to the power electrode

1. Fluid simulation and experimental validation of plasma radial uniformity in 60 MHz capacitively coupled nitrogen discharges

   Ying-Shuang Liang, Yong-Xin Liu, Yu‐Ru Zhang +1

   Статья2015Цитирований: 2

   ABIABI:AkademIndex/openalex/2026.other.418063

2. Influence of dual-frequency source powers on ion density and electron temperature in capacitively-coupled argon plasma

   Xiangzhan Jiang, Yong-Xin Liu, Wenqi Lu +3

   Статья2011Цитирований: 2

   ABIABI:AkademIndex/openalex/2026.other.418064

3. Experimental observation of standing wave effect in low-pressure very-high-frequency capacitive discharges

   Yong-Xin Liu, Fei Gao, Jia Liu +1

   Статья2014Цитирований: 2

   ABIABI:AkademIndex/openalex/2026.other.418066

4. Very high frequency capacitively coupled discharges for large area processing

   M. Meyyappan, Michael Colgan

   Статья1996Цитирований: 2

   ABIABI:AkademIndex/openalex/2026.other.418067

5. Improving plasma uniformity using lens-shaped electrodes in a large area very high frequency reactor

   Harald Schmidt, L. Sansonnens, A.A. Howling +3

   Статья2004Цитирований: 2

   ABIABI:AkademIndex/openalex/2026.other.418072

6. Enhanced Plasma Uniformity in RF Plasma With Side Multihole

   Hyo‐Chang Lee, Chin‐Wook Chung

   Статья2014Цитирований: 2

   ABIABI:AkademIndex/openalex/2026.other.418073

7. Effect of a dielectric layer on plasma uniformity in high frequency electronegative capacitive discharges

   Emi Kawamura, De‐Qi Wen, M. A. Lieberman +1

   Статья2017Цитирований: 2

   ABIABI:AkademIndex/openalex/2026.other.418075

8. Reduction of plasma-induced damage in n-type GaN by multistep-bias etching in inductively coupled plasma reactive ion etching

   Shinji Yamada, Masato Omori, Hideki Sakurai +5

   Статья2019Цитирований: 2

   ABIABI:AkademIndex/openalex/2026.other.418079

9. Effects of process parameters and chamber structure on plasma uniformity in a large-area capacitively coupled discharge

   Jicheng Zhou, Jia Liao, Jing Huang +3

   Статья2021Цитирований: 2

   ABIABI:AkademIndex/openalex/2026.other.418086

10. Customized modulation on plasma uniformity by non-uniform magnetic field in capacitively coupled plasma

    Sen 森 WANG 王, Quanzhi 权治 ZHANG 张, Fangfang 方方 MA 马 +2

    СтатьяPlasma Diagnostics and ApplicationsPlasma Science and Technology2024Цитирований: 1

    ABIABI:AkademIndex/openalex/2024.article.001767

11. Без названия

    ДругоеЦитирований: 1

    ABIABI:AkademIndex/openalex/2026.other.793136

12. Без названия

    ДругоеЦитирований: 1

    ABIABI:AkademIndex/openalex/2026.other.793137

13. Без названия

    ДругоеЦитирований: 1

    ABIABI:AkademIndex/openalex/2026.other.793138

14. Без названия

    ДругоеЦитирований: 1

    ABIABI:AkademIndex/openalex/2026.other.793139

15. Без названия

    ДругоеЦитирований: 1

    ABIABI:AkademIndex/openalex/2026.other.793140

16. Без названия

    ДругоеЦитирований: 1

    ABIABI:AkademIndex/openalex/2026.other.793141

17. Без названия

    ДругоеЦитирований: 1

    ABIABI:AkademIndex/openalex/2026.other.793142

18. Без названия

    ДругоеЦитирований: 1

    ABIABI:AkademIndex/openalex/2026.other.793143

19. Без названия

    ДругоеЦитирований: 1

    ABIABI:AkademIndex/openalex/2026.other.793144

20. Без названия

    ДругоеЦитирований: 1

    ABIABI:AkademIndex/openalex/2026.other.793145

21. Без названия

    ДругоеЦитирований: 1

    ABIABI:AkademIndex/openalex/2026.other.793146

22. Без названия

    ДругоеЦитирований: 1

    ABIABI:AkademIndex/openalex/2026.other.793147

23. Без названия

    ДругоеЦитирований: 1

    ABIABI:AkademIndex/openalex/2026.other.793148

24. Без названия

    ДругоеЦитирований: 1

    ABIABI:AkademIndex/openalex/2026.other.793149

25. Без названия

    ДругоеЦитирований: 1

    ABIABI:AkademIndex/openalex/2026.other.793150