Работы, цитирующие эту работу

Работ: 1

1. Tuning barrier height and enhancing electrical properties of MOS heterojunctions using Fe2O3 doped MoO3 nanocomposite interlayer on Ni/Cr/n-GaN for optoelectronic devices

   Karri Aswini, Chaitanya Kumar Kunapalli, K. Munirathnam +7

   СтатьяSemiconductor materials and interfacesPhysica B Condensed Matter2025Цитирований: 0

   ABIABI:AkademIndex/openalex/2025.article.001641