Работы, цитирующие эту работу

Работ: 2

Работа: Influence of Substrate Temperature on GaAs Epitaxial Deposition Rates

1. Kinetics and growth mechanism of gallium arsenide crystals in gas-phase epitaxy

   L. G. Lavrent’eva

   Статьяnanoparticles nucleation surface interactionsRussian Physics Journal1980Цитирований: 0

   ABIABI:AkademIndex/openalex/1980.article.000078

2. Investigation of anisotropic effects in vapor epitaxy of indium arsenide. I. Anistropy of growth rate and surface microrelief

   Г. А. Александрова, И. В. Ивонин, L. M. Krasil'nikova +3

   СтатьяAdvanced Semiconductor Detectors and MaterialsRussian Physics Journal1980Цитирований: 0

   ABIABI:AkademIndex/openalex/1980.article.000113