Работы, цитирующие эту работу

Работ: 1

1. Apparatus for growing GaN films on large-area substrates by the method of chloride-hydride vapor-phase epitaxy

   С. И. Степанов, D. Tsvetkov, A. E. Cherenkov

   СтатьяGaN-based semiconductor devices and materialsTechnical Physics Letters1998Цитирований: 0

   ABIABI:AkademIndex/openalex/1998.article.000248