← Назад к работе
Работы, цитирующие эту работу
Работ: 2
Работа: Thermal conductivity and thermal boundary resistance of atomic layer deposited high-<i>k</i> dielectric aluminum oxide, hafnium oxide, and titanium oxide thin films on silicon
Продукты
Для разработчиков
AkademBaseОткрытый API экосистемыРабот: 2
Работа: Thermal conductivity and thermal boundary resistance of atomic layer deposited high-<i>k</i> dielectric aluminum oxide, hafnium oxide, and titanium oxide thin films on silicon