Перейти к основному содержанию
AkademIndex

Продукты

Для разработчиков

AkademBaseОткрытый API экосистемы
← Назад к работе

Работы, цитирующие эту работу

Работ: 2

Работа: Thermal conductivity and thermal boundary resistance of atomic layer deposited high-<i>k</i> dielectric aluminum oxide, hafnium oxide, and titanium oxide thin films on silicon