K.T. Dovranov
3 ta ish
Qarshi Davlat Universiteti
ОСОБЕННОСТИ ФОРМИРОВАНИЯ НАНОПЛЕНКИ SiO2 НА ПОВЕРХНОСТИ Si ПРИ ИОННОЙ ИМПЛАНТАЦИИ
Б. З. Нуриддинов, K.T. Dovranov, A. K. Tashatov
MaqolaOchiq kirish20230 iqtibosABIELECTROPHYSICAL PROPERTIES OF NANOFILMS
K.T. Dovranov, M.T. ormuradov, A.A. Ulashov +1
MaqolaOchiq kirish20230 iqtibosABIFormation and Morphology of Cu nanofilms Using DC and RF Modes of a Magnetron Sputtering Device
K.T. Dovranov, S. Abrayeva, R.M. Yorqulov +4
MaqolaOchiq kirish20260 iqtibosABI