Application of low energy ion implantation to the creation of contacts to ultrathin films
A. K. TashatovKarshinskij inzhenerno-ehkonomicheskij institut, Karshi (Uzbekistan)
2001en
ABI
Annotatsiya
Annotatsiya mavjud emas.
Mavzular
Iqtiboslar va manbalar
0 ta iqtibos0 ta foydalanilgan manba
Koʻrsatkichlar — AkademScholar · Tez orada