← Назад к работе
Работы, на которые ссылается эта работа
Работ: 17
Работа: Electron microscopy characterization of higher manganese silicide film structure on silicon
Magnetic properties of single crystalline Mn4Si7
U. Gottlieb, A. Sulpice, B. Lambert‐Andron +1
Статья2003Цитирований: 5ABIElectron microscopic investigation of MnSi1.7 layers on Si(001)
Anna Mogilatenko, M. Falke, S. Teichert +3
Статья2002Цитирований: 4ABIPrecipitates of MnSi cubic phase in tetragonal Mn4Si7 crystal
Elena I. Suvorova, V. V. Klechkovskaya
Статья2013Цитирований: 3ABIGrowth of MnSi1.7 on Si(001) by MBE
S. Teichert, S Schwendler, D.K. Sarkar +5
Статья2001Цитирований: 3ABICrystal structure of the films of highest manganese silicide on silicon
V. V. Klechkovskaya, T. S. Kamilov, S. I. Adasheva +2
Статья1994Цитирований: 3ABIPhysicochemical interaction at the MnSi1.71–1.75/Mo interface
Л. И. Петрова, M. I. Fedorov, V. K. Zaĭtsev +1
Статья2013Цитирований: 2ABIDie Kristallstruktur von Mn11Si19 und deren Zusammenhang mit Disilicid-Typen
O. Schwomma, A. Preisinger, H. Nowotny +1
Статья1964Цитирований: 2ABITHE GROWTH OF <font>MnSi</font><sub>1.73</sub> PREPARED BY SPARK PLASMA SINTERING
Zhimin Wang, Yidong Wu, Yuanjin He
Статья2004Цитирований: 2ABI