← Назад к работе
Работы, цитирующие эту работу
Работ: 1
Influence of ion bombardment on the profile of the depth distribution of impurity atoms in Si used for solar cells and diode structures
Б. Е. Умирзаков, S. J. Nimatov, Kh. Kh. Boltaev
СтатьяSilicon and Solar Cell TechnologiesJournal of Surface Investigation X-ray Synchrotron and Neutron Techniques2014Цитирований: 8ABI