← Назад к работе
Работы, на которые ссылается эта работа
Работ: 9
Работа: Formation of Nanodimensional SiO2 Films on the Surface of a Free Si/Cu Film System by ${\text{O}}_{2}^{ + }$ Ion Implantation
Applying low-energy ion implantation in the creation of nanocontacts on the surface of ultrathin semiconductor films
D. M. Muradkabilov, Д. А. Ташмухамедова, Б. Е. Умирзаков
СтатьяIon-surface interactions and analysisJournal of Surface Investigation X-ray Synchrotron and Neutron Techniques2013Цитирований: 14ABISynchrotron investigations of Si/Mo/Si…c-Si (100) multilayer nanoperiodic structures
É. P. Domashevskaya, V. A. Terekhov, S. Yu. Turishchev +5
Статья2013Цитирований: 3ABIFormation of manganese silicide nanowires on Si(111) surfaces by the reactive epitaxy method
Статья2009Цитирований: 3ABI