← Назад к работе
Работы, цитирующие эту работу
Работ: 2
Работа: Device scaling effects on hot-carrier induced interface and oxide-trapped charge distributions in MOSFETs
Продукты
Для разработчиков
AkademBaseОткрытый API экосистемыРабот: 2
Работа: Device scaling effects on hot-carrier induced interface and oxide-trapped charge distributions in MOSFETs