Работы, цитирующие эту работу

Работ: 2

Работа: Morphology of ultrathin manganese silicide on Si(111)

1. About the mechanism of formation and growth of the higher manganese silicide films on silicon

   T. S. Kamilov, D.K. Kabilov, I.S. Samiev +6

   СтатьяSemiconductor materials and interfaces2005Цитирований: 3

   ABIABI:AkademIndex/openalex/2026.other.424565

2. About the Interface Between the Higher Manganese Silicide Film and Si (111)

   T. S. Kamilov, D.K. Kabilov, S.Kh. Babadjanov +5

   СтатьяSemiconductor materials and interfaces2006Цитирований: 0

   ABIABI:AkademIndex/openalex/2006.article.000312