Работы, цитирующие эту работу

Работ: 2

Работа: Directional thermoelectric properties of Ru2Si3

1. Selecting a Target for Obtaining Films of Higher Manganese Silicide Using Magnetron Sputtering

   М. S. Lukasov, Н. А. Архарова, Andrey Orekhov +2

   СтатьяSemiconductor materials and interfacesCrystallography Reports2024Цитирований: 0

   ABIABI:AkademIndex/openalex/2024.article.007559

2. Selecting a target for obtaining films of higher manganese silicide using magnetron sputtering

   М. S. Lukasov, Н. А. Архарова, Anton S. Orekhov +2

   СтатьяSemiconductor materials and interfacesКристаллография2024Цитирований: 0

   ABIABI:AkademIndex/openalex/2024.article.008195