Перейти к основному содержанию
AkademIndex

Продукты

Для разработчиков

AkademBaseОткрытый API экосистемы
← Назад к работе

Работы, на которые ссылается эта работа

Работ: 14

Работа: Study of the profiles of the distribution of atoms of the contacting material over the depth of pure and ion-doped silicon

  1. An ion track based approach to nano- and micro-electronics

    K. Hoppe, W. R. Fahrner, D. Fink +7

    Статья2008Цитирований: 9
    ABI
  2. Size effects on the luminescence spectrum in amorphous Si/SiO2 multilayer structures

    Yoshihiko Kanemitsu, Takashi Kushida

    Статья2000Цитирований: 4
    ABI
  3. Crystallographic study of semi-insulating polycrystalline silicon (SIPOS) doped with oxygen atoms

    M. Hamasaki, T. Adachi, S. Wakayama +1

    Статья1978Цитирований: 2
    ABI