← Назад к работе
Работы, на которые ссылается эта работа
Работ: 14
Работа: Study of the profiles of the distribution of atoms of the contacting material over the depth of pure and ion-doped silicon
An ion track based approach to nano- and micro-electronics
K. Hoppe, W. R. Fahrner, D. Fink +7
Статья2008Цитирований: 9ABICrystallographic study of semi-insulating polycrystalline silicon (SIPOS) doped with oxygen atoms
M. Hamasaki, T. Adachi, S. Wakayama +1
Статья1978Цитирований: 2ABI