← Назад к работе
Работы, на которые ссылается эта работа
Работ: 11
Работа: Possibility of obtaining the (GaSb)1 − x (Si2) x films on silicon substrates by the method of liquid-phase epitaxy
Preparation of GaSb substrates for GaSb and GaInAsSb growth by organometallic vapor phase epitaxy
Статья2003Цитирований: 2ABI