Работы, цитирующие эту работу

Работ: 2

Работа: Interaction of cobalt atoms with an oxidized Si(100)2 × 1 surface

1. The Effect of the Formation of Silicides on the Resistivity of Silicon

   Б. Е. Умирзаков, Д. А. Ташмухамедова, G. Kh. Allayarova +1

   СтатьяSemiconductor materials and interfacesTechnical Physics Letters2019Цитирований: 5

   ABIABI:AkademIndex/openalex/2019.article.000462

2. Nanodimensional CoSiO Films Obtained by Ion Implantation on a CoSi2 Surface

   S. B. Donaev

   СтатьяSemiconductor materials and devicesTechnical Physics Letters2020Цитирований: 4

   ABIABI:AkademIndex/openalex/2026.other.402218