Перейти к основному содержанию
AkademIndex

Продукты

Для разработчиков

AkademBaseОткрытый API экосистемы
← Назад к работе

Работы, цитирующие эту работу

Работ: 3

Работа: Electrical Behavior of Group III and V Implanted Dopants in Silicon

  1. Diffusion of yittrium in silicon

    D. É. Nazyrov, Muratali Bazarbaev, A. A. Iminov

    СтатьяSilicon and Solar Cell TechnologiesSemiconductors2006Цитирований: 0
    ABI