← Назад к работе
Работы, на которые ссылается эта работа
Работ: 14
Работа: Studies of Implantation of O+ Ions into SiO2(001) Films at the Small-Angle Ion Bombardment
Applying low-energy ion implantation in the creation of nanocontacts on the surface of ultrathin semiconductor films
D. M. Muradkabilov, Д. А. Ташмухамедова, Б. Е. Умирзаков
СтатьяIon-surface interactions and analysisJournal of Surface Investigation X-ray Synchrotron and Neutron Techniques2013Цитирований: 14ABI