Перейти к основному содержанию
AkademIndex

Продукты

Для разработчиков

AkademBaseОткрытый API экосистемы
← Назад к работе

Работы, на которые ссылается эта работа

Работ: 14

Работа: Codiffusion of Gallium and Phosphorus Atoms in Silicon

  1. Без названия

    ДругоеЦитирований: 9
    ABI
  2. Minority-charge-carrier mobility at low injection level in semiconductors

    L. I. Pomortseva

    Статья2011Цитирований: 2
    ABI
  3. Diffusion of phosphorus in arsenic and boron doped silicon

    Fred Wittel, Scott T. Dunham

    Статья1995Цитирований: 2
    ABI
  4. Redistribution of phosphorus implanted into silicon doped heavily with boron

    E. G. Tishkovskiǐ, V.I. Obodnikov, A. A. Taskin +2

    Статья2000Цитирований: 2
    ABI
  5. A model of high-and low-temperature phosphorus diffusion in silicon by a dual pair mechanism

    О. В. Александров

    Статья2001Цитирований: 2
    ABI
  6. Diffusion of boron and phosphorus in silicon during high-temperature ion implantation

    G. V. Gadiyak

    Статья1997Цитирований: 2
    ABI
  7. Direct growth of single-crystalline III–V semiconductors on amorphous substrates

    Kevin Chen, Rehan Kapadia, Audrey Harker +19

    Статья2016Цитирований: 2
    ABI
  8. Без названия

    ДругоеЦитирований: 1
    ABI
  9. Без названия

    ДругоеЦитирований: 1
    ABI
  10. Без названия

    ДругоеЦитирований: 1
    ABI