← Назад к работе
Работы, на которые ссылается эта работа
Работ: 14
Работа: Codiffusion of Gallium and Phosphorus Atoms in Silicon
Minority-charge-carrier mobility at low injection level in semiconductors
Статья2011Цитирований: 2ABIRedistribution of phosphorus implanted into silicon doped heavily with boron
E. G. Tishkovskiǐ, V.I. Obodnikov, A. A. Taskin +2
Статья2000Цитирований: 2ABIDiffusion of boron and phosphorus in silicon during high-temperature ion implantation
Статья1997Цитирований: 2ABIDirect growth of single-crystalline III–V semiconductors on amorphous substrates
Kevin Chen, Rehan Kapadia, Audrey Harker +19
Статья2016Цитирований: 2ABI